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J-GLOBAL ID：200903041659487032

プラズマエッチング残留物を除去するための非腐蝕性クリーニング組成物

Inventor： ケンジ・ホンダ ,  タイシー・モー
Applicant, Patent owner： オリン・マイクロエレクトロニツク・ケミカルズ・インコーポレイテツド
Agent (1)： 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997240789
Publication number (International publication number)：1998097082
Application date： Sep. 05, 1997
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 プラズマエッチング残留物を除去するための非腐蝕性クリーニング組成物の提供。【解決手段】 このクリーニング組成物は、水、少なくとも1種の水酸化第4級アンモニウム、および(i)珪酸第4級アンモニウムと(ii)約220〜約5,000の範囲の分子量を有する、カテコール核を含むオリゴマーとからなる群から選択される少なくとも1種の腐蝕防止剤を含む。

Claim (excerpt)：

(A) 水、(B) 少なくとも1種の水酸化第4級アンモニウム、および(C)(i)珪酸第4級アンモニウムと(ii)分子量が約220〜約5000である、カテコール核を含むオリゴマーとからなる群から選択される少なくとも1種の腐蝕防止剤を含有することを特徴とする、プラズマエッチングの際に生成する残留物を基板から除去するためのクリーニング組成物。

IPC (2)：

G03F 7/40 521 ,  G03F 7/32

FI (2)：

G03F 7/40 521 ,  G03F 7/32