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J-GLOBAL ID：200903041684253461

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 河辺 保雅 ,  上西 一也 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991244066
Publication number (International publication number)：1993061193
Application date： Aug. 30, 1991
Publication date： Mar. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高感度で、プリベーキング条件によつてレジスト性能が低下することがなく、しかもハレーシヨン防止効果が高く解像力の高いレジストパターンを形成することのできるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、アルカリ可溶性樹脂及び1,2-ナフトキノンジアジド基を含む化合物から成り、更に下記一般式(I)、(II)、(III)もしくは(IV)で表される基を1分子中に少なくとも1個有し、かつ、一般式(V)で表される基を1分子中に少なくとも1個有する吸光剤を全固形分の0.1〜10重量%含む。【化1】

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂及び1,2-ナフトキノン ジアジド基を含む化合物から成るポジ型組成物において、更に下記一般式(I)、(II)、(III)もしくは(IV)で表される基を1分子中に少なくとも1個有し、かつ、一般式(V)で表される基を1分子中に少なくとも1個有する吸光剤を全固形分の0.1〜10重量%含むことを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、X:-C(=O)-もしくは-S(=O)2-、Y:2価の脂肪族もしくは芳香族炭化水素基、を表す。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027