Pat
J-GLOBAL ID:200903041714807831

廃水に光照射するためのモジュール

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 宇井 正一 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993194448
Publication number (International publication number):1994206068
Application date: Aug. 05, 1993
Publication date: Jul. 26, 1994
Summary:
【要約】【目的】 本発明は洗浄と自動的な自己洗浄間の期間を延長可能にした消毒装置を提供する。【構成】 浸漬可能であり、持運び可能であり、また作動位置において自己洗浄が可能な廃水消毒用モジュールはジャケット24内に配置された多数の紫外線発光ランプ14を作動位置において受取りかつ維持できる上方頭部を含む。またモジュールはジャケット24内に配置されたランプ14を作動位置において受取りかつ維持できると共に洗浄用流体を受取るための空間を有した下方頭部20を含む。上記ランプ14およびジャケット24はこれら頭部に連結される。下方頭部20は洗浄用流体76を受取ることができると共にジャケット24に隣接した多数の洗浄用流体流出穴58を有する。このため洗浄用流体76が上記空間内に流入し、流出穴58から外部に流出し、上記ジャケット24に接触する。
Claim (excerpt):
廃水に光照射するためのモジュールであって浸漬可能であり、持運び可能であり、かつ作動位置において自己洗浄が可能なモジュールにおいて、多数の紫外線発光ランプを作動位置において受取りかつ維持することができる第1の頭部と、上記多数のランプを作動位置において受取りかつ維持することができると共に洗浄用流体を受取るための空間を有した第2の頭部と、を具備し、上記多数のランプがこれら頭部に連結され、上記第2頭部が洗浄用流体を受取ることができると共に上記ランプに隣接した多数の洗浄用流体流出穴を有して上記洗浄用流体が上記空間内に流入し、上記流出穴から外部に流出し、上記ランプに接触するようにしたモジュール。
IPC (4):
C02F 1/32 ZAB ,  A61L 2/10 ZAB ,  C02F 1/72 ZAB ,  C02F 1/72 101

Return to Previous Page