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J-GLOBAL ID:200903041719398328
ステレオ画像対応付け方法およびステレオ画像視差計測方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994125346
Publication number (International publication number):1995336669
Application date: Jun. 07, 1994
Publication date: Dec. 22, 1995
Summary:
【要約】【目的】 できるだけ少ない演算量でステレオ画像の対応付けおよびステレオ画像の視差を決定する方法と、対応付けで発生した誤りを吸収できるような視差計測方法を提供する。【構成】 撮像フェーズ(A)では2台の撮像装置にて左右の2画像を得る (S1,S2)。次に、撮像フェーズ(A)で得られた左右画像は、それぞれ特徴抽出フェーズ(B)にて特徴抽出が施され(S3,S4)、後段の対応付けフェーズ(C)にて左右2つの特徴画像間で対応付けが行われる(S5)。対応付けフェーズ(C)では、基準とする一方の特徴画像上をある走査規則に従ってウィンドゥを走査させることによって、対応付けの単位である前記ウィンドゥを順次設定し、設定した前記ウィンドゥごとに他方の特徴画像との間で対応付けを行う。次に、視差決定フェーズ(D)では、基準とする一方の特徴画像をある大きさのブロックにて分割し、各ブロックごとにブロック内に包含されるウィンドゥの対応付けによって得られた視差を用いてヒストグラムを生成し、その最頻値をブロックの視差とする(S6)。
Claim (excerpt):
所定間隔を隔てて水平方向に配置した2台の撮像装置により撮影された左右の2画像のステレオ画像に対し、一次微分処理あるいは二次微分処理を施すことによって画像中のエッジを抽出し、これを正の閾値TH1および負の閾値TH2によって3値化し、前記3値化処理によって得られる左右2つの3値化画像を用いて左右画像の対応付けを行うことを特徴とするステレオ画像対応付け方法。
IPC (3):
H04N 7/18
, H04N 13/00
, G02B 27/22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭62-003585
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特開昭60-217472
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磁気ヘッド部品の基準位置検出方式及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-029182
Applicant:株式会社日立製作所
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