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J-GLOBAL ID：200903041737550684

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

Inventor：
原田 由香子

About 原田 由香子

, 
吉田 勲

About 吉田 勲

, 
高田 佳幸

About 高田 佳幸


Applicant, Patent owner：
住友化学株式会社

About 住友化学株式会社


Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006292107
Publication number (International publication number)：2007145822
Application date： Oct. 27, 2006
Publication date： Jun. 14, 2007
Summary：
【課題】高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。(式(I)中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、Xは炭素数1〜30の非環式炭化水素又は単環もしくは2環を含む炭素数3〜30の炭化水素の2価又は3価の残基を表し、これらの炭化水素はエーテル結合を含んでいてもよい。A+は有機対イオンを表す。Yは水酸基、シアノ基又はメトキシ基を表し、nは1〜2の整数を表す。式中のXは炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基又はシアノ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。)【選択図】なし
Claim (excerpt)：
式(I)で示されることを特徴とする塩。
IPC (7)：
C07C 309/17 ,  C07C 381/12 ,  C07C 303/22 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (8)：
C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C303/22 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (19)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92 ,  4H006AC48 ,  4H006AC61 ,  4H006AC90
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • ポジ型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039501   Applicant：住友化学工業株式会社
Cited by examiner (6)
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