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J-GLOBAL ID:200903041738591945
電子線の照射方法及び装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高矢 諭 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997232186
Publication number (International publication number):1999072599
Application date: Aug. 28, 1997
Publication date: Mar. 16, 1999
Summary:
【要約】【課題】 電子線を用いた架橋(重合)反応における酸素の阻害反応の発生を低減して、窒素ガスの消費量を減らす。【解決手段】 連続的に供給される被照射物10に電子線32を照射する際に、パルス状の電子ビーム48、76を照射する。
Claim (excerpt):
被照射物に電子線を照射するための電子線の照射方法において、パルス状の電子ビームを照射することを特徴とする電子線の照射方法。
IPC (2):
FI (2):
G21K 5/04 E
, G21K 1/00 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
有機高分子固体電解質及びそれを用いた電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-163601
Applicant:株式会社ユアサコーポレーション
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