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J-GLOBAL ID：200903041743324742
ヘリカルスキャンにおけるスキューアーティファクトの低減方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井島 藤治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992342059
Publication number (International publication number)：1994181919
Application date： Dec. 22, 1992
Publication date： Jul. 05, 1994
Summary：
【要約】【目的】 1/4-1/4オフセット法を採用するX線CTにおいて、対向ビューデータによる補正を用いて、一回転の列データより一回転の補正データを得ることができて、スキューアーティクトを低減し得る方法を実現することである。【構成】 ヘリカルスキャンデータA11から補間データA13を求め、ヘリカルスキャンデータB12との間で補正係数をそれぞれ乗じて補正データE19を求める。次にヘリカルスキャンデータB12から補間データB14を求め、ヘリカルスキャンデータA11との間で補正データA15を求める。この補正データA15と補正データE19とを用いてスライス位置のヘリカルイメージを再構成する。
Claim (excerpt)：
1/4-1/4オフセット方式を採用するX線CTによって行うヘリカルスキャンにおけるスキューアーティファクトの低減方法であって、ほぼ半回転によって得られる第1のヘリカルスキャンデータ(11)のほぼ対向位置にあるオフセットされた第2のヘリカルスキャンデータ(12)から隣接データ間の平均操作により補間して前記第1のヘリカルスキャンデータ(11)の正確な対向データである第2の補間データ(14)を演算して求める段階と、スライス位置に対する前記第1のヘリカルスキャンデータ(11)と前記第2の補間データ(14)との距離の比に対応する補正係数(ω(I,J),1-ω(I,J))をそれぞれ前記各データに乗じて加算し、第1の補正データ(15)を求める段階と、から成り、得られた第1の補正データ(15)を用いてイメージを再構成することを特徴とするヘリカルスキャンにおけるアーティファクトの低減方法。
Patent cited by the Patent：
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