排気ガス浄化装置の再生システム

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：安富康男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000070906
Publication number (International publication number)：2001263044
Application date： Mar. 14, 2000
Publication date： Sep. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】セラミックフィルタに堆積したパティキュレートを短時間で効率よく、しかも、完全に焼却することができる排気ガス浄化装置の再生システムを提供する。【解決手段】円筒状に形成され、該円筒の軸線方向に沿って内燃機関の排気を通過させる排気ガス浄化用セラミックフィルタと、該フィルタを再生するために該フィルタの排気ガス流入側に配設した、ヒータ線及び該ヒータ線が内装された保護管より構成される複数のヒータとを含んで構成される排気ガス浄化装置の再生システムであって、前記円筒の軸線方向に垂直な断面の面積に対し、前記複数のヒータの前記軸線方向の投影面積が、20〜90%の範囲にあることを特徴とする排気ガス浄化装置の再生システム。

Claim (excerpt)：

円筒状に形成され、該円筒の軸線方向に沿って内燃機関の排気を通過させる排気ガス浄化用セラミックフィルタと、該フィルタを再生するために該フィルタの排気ガス流入側に配設した、ヒータ線及び該ヒータ線が内装された保護管より構成される複数のヒータとを含んで構成される排気ガス浄化装置の再生システムであって、前記円筒の軸線方向に垂直な断面の面積に対し、前記複数のヒータの前記軸線方向の投影面積が、20〜90%の範囲にあることを特徴とする排気ガス浄化装置の再生システム。

IPC (3)：

F01N 3/02 341 , F01N 3/02 301 , B01D 46/42

FI (3)：

F01N 3/02 341 H , F01N 3/02 301 B , B01D 46/42 B

F-Term (15)：

3G090AA02 , 3G090AA04 , 3G090BA05 , 3G090CA01 , 3G090CA05 , 3G090CB11 , 3G090CB25 , 3G090DA03 , 3G090DA11 , 4D058JA32 , 4D058JB06 , 4D058MA42 , 4D058QA01 , 4D058QA30 , 4D058SA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

排気ガス浄化装置の再生システム及びヒータユニット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-252018 Applicant：イビデン株式会社

Return to Previous Page