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J-GLOBAL ID：200903041790084725

洗浄方法及び洗浄装置

Inventor： 舟橋 倫正 ,  渡辺 啓一 ,  小俣 茂 ,  西 光雄 ,  田中 裕司
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立電子エンジニアリング株式会社 ,  東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994046165
Publication number (International publication number)：1995254583
Application date： Mar. 16, 1994
Publication date： Oct. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】 洗浄液の雰囲気に触れることに起因する搬送機の腐食を防止できるようにする。【構成】 搬送機9を用いて処理槽処理槽1-1〜1-3に同一の被洗浄物を順次経由させながら洗浄を行うに際し、搬送機9が処理槽1-1〜1-3の内の隣接する2槽を経由した後に、搬送機9の多関節アーム10を洗浄機構11で散水して水洗を行う。

Claim (excerpt)：

搬送機を用いて複数の処理槽に同一の被洗浄物を順次経由させながら洗浄を行う洗浄装置であって、前記搬送機が前記複数の処理槽の隣接する2槽を経由した後に、前記搬送機の少なくともアーム部を洗浄することを特徴とする洗浄方法。

IPC (4)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  B08B 3/04 ,  H01L 21/68