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J-GLOBAL ID:200903041794864083
基板洗浄装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
森本 義弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992166499
Publication number (International publication number):1994013359
Application date: Jun. 25, 1992
Publication date: Jan. 21, 1994
Summary:
【要約】【目的】ブラシ洗浄やブラシ水洗を均一にかつ十分に行なえ、さらにブラシに付着した異物の除去を容易に行なうことのできる基板洗浄装置を提供することを目的とする。【構成】基板1の搬送方向に設けたブラシ洗浄室3およびブラシ水洗室12にそれぞれ基板1の両面に一定角度で一定時間洗浄液および純水を供給するスリット状の吹き出し口19および21を有するノズル20および22と、前記基板1の両面に接触し一定速度で回転するブラシ5および14と、洗浄液および純水を少量に調節しブラシ5および14を自己洗浄するノズル4および13を設け、ブラシ洗浄を均一に行なえ、基板の洗浄むらをなくすことができる。
Claim (excerpt):
基板の搬送方向に設けたブラシ洗浄室およびブラシ水洗室にそれぞれ基板の両面に一定角度で一定時間洗浄液および純水を供給するスリット状の吹き出し口を有するノズルと、前記基板の両面に接触し一定速度で回転するブラシと、洗浄液および純水を少量に調節しブラシを自己洗浄するノズルを設けたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4):
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 7/04
, H05K 3/26
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭63-224332
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特開昭56-032727
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特開昭63-305517
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