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J-GLOBAL ID:200903041798286556
低摩擦性炭素膜及びこれを用いた摺動部材
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
的場 基憲
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998272741
Publication number (International publication number):2000103611
Application date: Sep. 28, 1998
Publication date: Apr. 11, 2000
Summary:
【要約】【課題】 潤滑下及び無潤滑下に拘わらず、低い摩擦係数を実現し得る非晶質系の炭素膜及びこれを用いた摺動部材を提供すること。【解決手段】 非晶質構造を主体とする炭素膜を成膜した後、150〜500°Cで10分間以上熱処理して得られる低摩擦性炭素膜である。熱処理は、高周波焼き入れ用コイルやレーザー光で行ってもよい。ラマン分光分析を行って得られるラマンスペクトルにおいて、ラマンシフトで1350ppm付近に明確なピークを持つ。上述の低摩擦性炭素膜を、鋼材又は硬質セラミックスを含有する基材に被覆して成る摺動部材である。
Claim (excerpt):
非晶質構造を主体とする炭素膜を成膜した後、150〜500°Cで10分間以上熱処理して得られることを特徴とする低摩擦性炭素膜。
IPC (5):
C01B 31/02 101
, B23P 9/00
, C23C 14/06
, C23C 16/26
, C23C 26/00
FI (5):
C01B 31/02 101 Z
, B23P 9/00
, C23C 14/06 F
, C23C 16/26 Z
, C23C 26/00 M
F-Term (33):
4G046CA02
, 4G046CB03
, 4G046CB08
, 4G046CC03
, 4G046CC06
, 4G046HB07
, 4K029AA02
, 4K029AA04
, 4K029AA07
, 4K029AA08
, 4K029AA24
, 4K029BA34
, 4K029BC02
, 4K029BD04
, 4K029CA03
, 4K029CA12
, 4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030BB03
, 4K030BB05
, 4K030CA02
, 4K030CA05
, 4K030FA07
, 4K030FA12
, 4K030LA23
, 4K044AA02
, 4K044AA13
, 4K044BA18
, 4K044BB17
, 4K044BC01
, 4K044CA13
, 4K044CA14
, 4K044CA62
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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