Pat

J-GLOBAL ID：200903041799313620

水素同位体含有ガス除去装置およびそれに用いる吸着装置

Inventor： 宇田 達彦 ,  田中 将裕 ,  宗像 健三
Applicant, Patent owner： 大学共同利用機関法人自然科学研究機構
Agent (5)： 杉村 憲司 ,  杉村 興作 ,  来間 清志 ,  藤谷 史朗 ,  澤田 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008056786
Publication number (International publication number)：2009210543
Application date： Mar. 06, 2008
Publication date： Sep. 17, 2009
Summary：

【課題】吸湿性能を低下させることなく、流体抵抗を効果的に低減して、移送ポンプ系や容器配管系への負荷軽減を可能ならしめた吸着装置を提供する。【解決手段】トリチウムを含む水素および水素化合物ガスを酸化させ、該酸化により生じた水分を含む湿潤ガス中から水分を捕集する吸湿部材を収納した吸着装置において、該吸湿部材として、ハニカム構造になり、かつ該ハニカム構造の吸湿部材が、吸湿材に対し15〜40mass%の造形材を混合して成型したものを用いる。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

トリチウムを含む水素および水素化合物ガスを酸化させ、該酸化により生じた水分を含む湿潤ガス中から水分を捕集する吸湿部材を収納した吸着装置であって、該吸湿部材がハニカム構造になり、かつ該ハニカム構造の吸湿部材が、吸湿材に対し15〜40 mass%の造形材を混合して成型したものであることを特徴とする水素同位体含有ガス除去装置用の吸着装置。

IPC (2)：

G21F 9/02 ,  G21B 1/11

FI (4)：

G21F9/02 511T ,  G21F9/02 511P ,  G21F9/02 541A ,  G21B1/00 P

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• トリチウム含有ガス処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-327503   Applicant：株式会社日立製作所
• トリチウムの除去処理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-279965   Applicant：三菱重工業株式会社

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-240921
  
• ガス浄化方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-240256   Applicant：日本原子力研究所, 石川島播磨重工業株式会社
• 乾式吸着装置およびその吸着材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-021418   Applicant：シャープ株式会社
• ガス中トリチウムの除去処理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-281669   Applicant：三菱重工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 「ハニカム型吸着剤における水分吸着挙動の検討」