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J-GLOBAL ID：200903041806050621
投影露光方法及び投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
立石 篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997021025
Publication number (International publication number)：1998209030
Application date： Jan. 20, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：
【要約】【課題】 感光基板表面の被露光領域の部分的な凹凸等に影響されることなく、常に高精度な露光が行えるようにする。【解決手段】 露光前に、ウエハWを2次元面内で移動させ、複数の計測点(例えば、P4 〜P6 )におけるウエハW表面の光軸(Z軸)方向位置を計測して凹凸を見るとともに、投影光学系の最良結像面Fo を計測する。そして、ウエハWの裏面側を吸着固定するウエハホルダ25の複数の面要素62をそれぞれ光軸方向に所定量だけ駆動することにより、ウエハWの表面を投影光学系の最良結像面Fo と一致させることができるため、常に高精度な露光を行うことができる。
Claim (excerpt)：
マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に露光する投影露光方法であって、露光に先立って、前記感光基板を2次元面内で移動しつつ、前記感光基板表面の前記投影光学系の光軸方向の位置の変化を光電検出することにより、前記感光基板表面の凹凸を計測する第1工程と;前記投影光学系の結像特性を測定する第2工程と;前記第1工程及び第2工程の結果に基づいて、前記感光基板上の被露光領域が前記投影光学系の最良結像面に一致するように前記感光基板表面の形状を設定する第3工程とを含む投影露光方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/207 H
