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J-GLOBAL ID：200903041836832462

絶縁薄膜製造用組成物

Inventor： 花畑 博之 ,  黒木 正勝
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Agent (1)： 武井 英夫 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999122870
Publication number (International publication number)：2000313612
Application date： Apr. 28, 1999
Publication date： Nov. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 誘電率が低く、半導体の多層配線構造体に用いることの可能な絶縁薄膜製造用組成物、およびその用途、並びにそれらの製造方法を提供する。【解決手段】 アルコキシシラン類を原料とし、アルコキシシラン類の加水分解反応をアルコキシシランと水とのモル比を特定の範囲で行い、引き続き起こる縮合反応で縮合率を特定の範囲に制御して得られたシリカゾルの前駆体を有機ポリマーの存在下でゲル化反応させ、一旦シリカゲル/有機ポリマー複合体(ハイブリッド体)薄膜に成形する。その後、このハイブリッド体薄膜から有機ポリマーを、加熱焼成により除去して得られる多孔性シリカ薄膜。

Claim (excerpt)：

一般式、R<SP>1 </SP><SB>n</SB>(Si)(OR<SP>2 </SP>)<SB>4-n</SB>(式中、R<SP>1 </SP>はHまたは炭素数1〜8の直鎖状、分岐状および環状アルキル基または芳香族基を表し、R<SP>2 </SP>は炭素数1〜6の直鎖状または分岐状アルキル基を表す。また、nは0〜3の整数である。)で表されるアルコキシシラン類の加水分解反応において、アルコキシシランと水とのモル比(R)が0.5<R<10であり、引き続いて起こる縮合反応においては、縮合率(C)が0.20<C<0.97であるシリカ前駆体と、炭素数が1〜12のエーテル基含有繰り返し単位を有する脂肪族ポリエーテル鎖、炭素数が1〜12のエステル基含有繰り返し単位を有する脂肪族ポリエステル鎖、炭素数が1〜12のカーボネート基含有繰り返し単位を有する脂肪族ポリカーボネート鎖および炭素数が1〜12のアンハイドライド基含有繰り返し単位を有する脂肪族ポリアンハイドライド鎖よりなる群より選ばれる少なくとも一種類の脂肪族ポリマー鎖から主に構成される主鎖を有する少なくとも一種類の有機ポリマーとを含有することを特徴とする絶縁薄膜製造用組成物。

IPC (5)：

C01B 33/12 ,  C08L 71/00 ,  C08L 83/04 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/768

FI (5)：

C01B 33/12 C ,  C08L 71/00 ,  C08L 83/04 ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/90 S

F-Term (51)：

4G072AA28 ,  4G072AA38 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072CC13 ,  4G072GG02 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK01 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072LL14 ,  4G072MM01 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072TT08 ,  4G072UU07 ,  4G072UU30 ,  4J002CF031 ,  4J002CF191 ,  4J002CG011 ,  4J002CH021 ,  4J002CH031 ,  4J002CJ001 ,  4J002CP032 ,  4J002GQ01 ,  5F033GG00 ,  5F033GG01 ,  5F033GG02 ,  5F033QQ74 ,  5F033RR04 ,  5F033SS22 ,  5F033WW00 ,  5F033WW03 ,  5F033WW04 ,  5F033XX24 ,  5F033XX27 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058BA20 ,  5F058BC05 ,  5F058BC20 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BJ01 ,  5F058BJ02