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J-GLOBAL ID：200903041839353603

集積回路誘電体及び方法

Inventor： ウェイ ウィリアム リー ,  リチャード エス.リスト ,  チャングミング ジン ,  ケリー ジェイ.タイラー ,  ジオング - ピング ルー ,  ステファン ダブリュ.ラッセル ,  ロバート エイチ.ハーブマン
Applicant, Patent owner： テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド
Agent (1)： 浅村 皓 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998147773
Publication number (International publication number)：1999003888
Application date： May. 28, 1998
Publication date： Jan. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】 シリカキセロゲル誘電体を提供する。【解決手段】 (a) 多孔性誘電体の第一層と、(b) 前記多孔性誘電体上の第二の誘電体層とを含んで成り、(c) 第二誘電体層は、前記多孔性誘電体層の表面の開放細孔の容積の少なくとも50%を満たすことを特徴とする、誘電体構造体。

Claim (excerpt)：

(a) 多孔性誘電体の第一層と、(b) 前記多孔性誘電体上の第二の誘電体層とを含んで成り、(c) 第二誘電体層が、前記多孔性誘電体層の表面の開放細孔の容積の少なくとも50%を満たすことを特徴とする、誘電体構造体。

IPC (3)：

H01L 21/316 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/768

FI (3)：

H01L 21/316 M ,  H01L 21/28 M ,  H01L 21/90 K