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J-GLOBAL ID:200903041852848832
レーザマーキング方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
本多 小平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994006168
Publication number (International publication number):1995204872
Application date: Jan. 25, 1994
Publication date: Aug. 08, 1995
Summary:
【要約】【目的】 圧延用ロール刻印など文字線幅が大きく、深彫りを必要とするマーキング方法において、低コストでドロス堆積が少なく均一な断面を有する文字線形状が得られるマーキング方法を提供する。【構成】 レーザマーキング装置において、パルス励起レーザとこれを集光し加工表面を溶融させる集光レンズと、アシストガスをレーザビームと同軸に加工表面へ照射するアシストガス照射装置を備え、加工表面でのレーザビーム加工径と文字線幅を同一とし、レーザパルスを重ね照射しながら文字や図形パターンを描くように走査させることを特徴とする。また、加工表面に照射するアシストガスの照射方向を、レーザビームの進行方向と同じになるように制御するアシストガス照射装置を備えることを特徴とする。
Claim (excerpt):
レーザビームを照射してマーキングする方法において、照射レーザをパルス励起し、該パルス励起レーザを集光して被加工表面を照射する如くなし、被加工表面でのレーザビーム径を文字線幅と同一とし、レーザパルスを重ね照射しながら文字や図形パターンを描くように走査させることを特徴とするレーザマーキング方法。
IPC (4):
B23K 26/00
, B23K 26/04
, B23K 26/14
, B41M 5/24
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