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J-GLOBAL ID：200903041872320133

フォトマスクブランクの製造方法

Inventor： 金子 英雄 ,  稲月 判臣 ,  塚本 哲史 ,  岡崎 智
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002154974
Publication number (International publication number)：2003344989
Application date： May. 29, 2002
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：

【要約】【解決手段】 露光光に対して透明な基板の上にスパッタリングにより遮光膜又は位相シフト膜を成膜してなるフォトマスクブランクの製造方法であって、ターゲットと基板との間に遮蔽板を設け、低角度で入射するスパッタリング粒子の基板への照射を規制して遮光膜又は位相シフト膜を成膜することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。【効果】 本発明のフォトマスクブランクの製造方法によれば、フォトマスクブランクの側面に付着した膜の膜厚を薄くすることができるため、搬送等による膜の剥離が少ない高品質なフォトマスクブランクを得ることができ、これによりフォトマスク作製時のパターン欠陥を低減することができる。

Claim (excerpt)：

露光光に対して透明な基板の上にスパッタリングにより遮光膜又は位相シフト膜を成膜してなるフォトマスクブランクの製造方法であって、ターゲットと基板との間に遮蔽板を設け、低角度で入射するスパッタリング粒子の基板への照射を規制して遮光膜又は位相シフト膜を成膜することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/08 L ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (6)：

2H095BB03 ,  2H095BB25 ,  2H095BB35 ,  2H095BC04 ,  2H095BC08 ,  2H095BC24