Pat

J-GLOBAL ID：200903041907244540

基板加熱装置

Inventor： 佐藤 功
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 船橋 国則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991336319
Publication number (International publication number)：1993152201
Application date： Nov. 25, 1991
Publication date： Jun. 18, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板加熱の設定温度を変えた場合でも短時間で設定温度に到達することができ、また加熱時における基板の汚染を防止することができるようにする。【構成】 赤外線ヒータ1の下方に基板支持部3を回転自在及び上下動自在に配設し、赤外線ヒータ1と基板支持部3との間で、かつ赤外線ヒータ1側に放熱板2を配設する。そして、赤外線ヒータ1からの赤外線を放熱板2に吸収させて昇温させ、放熱板2を介して基板支持部3上に設置された基板30を加熱する。

Claim (excerpt)：

基板を所要の温度に加熱する基板加熱装置において、ヒータと、該ヒータの下方に回転自在及び上下動自在に配設された基板支持部と、前記ヒータと前記基板支持部との間にあり、かつ前記ヒータ側に配設された放熱板とから構成されていることを特徴とする基板加熱装置。