Pat
J-GLOBAL ID：200903041946172620
湿式処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
高田 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993258337
Publication number (International publication number)：1995115079
Application date： Oct. 15, 1993
Publication date： May. 02, 1995
Summary：
【要約】【目的】 処理液を無駄にすることなく処理槽内の洗浄が可能な湿式処理装置を得る。【構成】 一端が内槽1に他端が外槽4にそれぞれ連通し途中にフィルタ6および循環ポンプ7が接続された循環濾過経路5と、この循環濾過経路5にフィルタ6および循環ポンプ7と並列になるように接続され途中に処理液槽18が接続された予備循環濾過経路17と、処理液槽18に連通し処理液を供給する処理液供給手段8と、処理槽18に設けられ内槽1の内壁に純水を噴射して洗浄を行う純水噴射ノズル14とを備え、純水噴射ノズル14による処理槽10の洗浄時には、処理液が処理槽10内を流通するのを閉止して、予備循環濾過経路17内を循環させる。
Claim (excerpt)：
半導体ウエハが投入される内槽およびこの内槽を取り囲むように形成される外槽からなる処理槽と、一端が上記内槽に他端が上記外槽にそれぞれ連通して接続された循環濾過経路と、上記循環濾過経路に並列になるように接続され途中に処理液槽が接続された予備循環濾過経路と、上記処理液槽に連通し処理液を供給する処理液供給手段と、上記処理槽に設けられ上記内槽の内壁に純水を噴射して洗浄を行う純水噴射ノズルと、上記循環濾過経路の上記予備循環濾過経路との両接続点より上記内槽側および外槽側にそれぞれ接続され上記予備循環濾過経路作動中は閉止される第1および第2の開閉バルブと、上記予備循環濾過経路の上記循環濾過経路との両接続点と上記処理液槽との間にそれぞれ接続され上記循環濾過経路作動中は閉止される第3および第4の開閉バルブとを備えたことを特徴とする湿式処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
