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J-GLOBAL ID:200903042011288189

水素化炭素薄膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂口 博 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998012352
Publication number (International publication number):1998228640
Application date: Jan. 26, 1998
Publication date: Aug. 25, 1998
Summary:
【要約】【課題】良好な付着性および良好な耐磨耗性を有するコーティングを提供する。【解決手段】本発明の実施態様は、水素化レベルが表面で高く、基材に向かって下がるにつれて低下する、ディスク上に付される一層、二層または三層の保護用水素化炭素(C:H)薄膜コーティングである。オーバコートの種々の層または区域の水素含量は、C:H膜の異なる性質、たとえば、低い水素レベルで得られる良好な付着性、中間レベルの水素含量で得られる高い硬度および高い水素含量の膜で得られる低い表面エネルギーを利用するように最適化される。一つの実施態様では、ディスクは、スパッタリングにより、水素濃度が膜表面に向かって増加する勾配を有するC:H薄膜でコーティングされる。本発明の第二の実施態様は、下層の水素含量が表面層の水素含量よりも低い2枚の層を使用する。
Claim (excerpt):
ディスク・ドライブにおける耐磨耗部品として使用するための製品であって、薄膜層を上に有しても有しなくてもよい基材と、前記基材または薄膜層の上に配置されて表面を形成する薄膜保護層と、を含み、前記薄膜保護層が炭素および水素を含有し、水素が、前記基材または薄膜層にもっとも近いところでは最低の原子%で存在し、前記表面に向かって徐々に増加し、前記表面では最高の原子%で存在することを特徴とする製品。
IPC (4):
G11B 5/72 ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/255
FI (4):
G11B 5/72 ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/34 S ,  G11B 5/255
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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