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J-GLOBAL ID：200903042056305386

フォトマスクブランクス、感光性転写材料およびフォトマスクの製造方法

Inventor： 高柳 丘
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001300947
Publication number (International publication number)：2003107674
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】 乳剤層あるいは感光性層の上に、たとえば塵埃、ゴミ等が付着せず、また感光性層に傷がつかないフォトマスクブランクス、そのための感光性転写材料を提供することにあり、さらに前記フォトマスクブランクスあるいは感光性転写材料を用いるフォトマスクの製造方法を提供すること。【解決手段】 光透過性の基材の上に、少なくとも、遮光層、感光性層および仮支持体をこの順に設けたフォトマスクブランクス、このための感光性転写材料および前記フォトマスクブランクスを用いるフォトマスクの製造方法。

Claim (excerpt)：

光透過性の基材の上に、少なくとも、遮光層、感光性層および仮支持体をこの順に設けたフォトマスクブランクス。

IPC (6)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/09 501 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027

FI (9)：

G03F 1/08 Z ,  G03F 1/08 J ,  G03F 1/08 K ,  G03F 1/08 L ,  G03F 1/14 G ,  G03F 7/09 501 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (38)：

2H025AA13 ,  2H025AA18 ,  2H025AB08 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CC12 ,  2H025DA03 ,  2H025DA21 ,  2H025DA30 ,  2H025DA33 ,  2H025DA38 ,  2H025EA08 ,  2H025FA17 ,  2H095BB08 ,  2H095BB14 ,  2H095BB28 ,  2H095BB30 ,  2H095BC06 ,  2H095BC08 ,  2H095BC09 ,  2H095BC16 ,  2H097AA03 ,  2H097BA06 ,  2H097CA17 ,  2H097FA02 ,  2H097GB04 ,  2H097JA02 ,  2H097JA03 ,  2H097JA04 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  2H097LA17