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J-GLOBAL ID：200903042061085718

パターン転写装置、型の洗浄方法、パターン転写方法

Inventor： 後藤 博史 ,  吉岡 治男 ,  岸 英樹
Applicant, Patent owner： 株式会社物産ナノテク研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003433791
Publication number (International publication number)：2005191444
Application date： Dec. 26, 2003
Publication date： Jul. 14, 2005
Summary：

【課題】 型を常にクリーンな状態に保ち、かつ高い再現性を確保することのできるパターン転写装置、型の洗浄方法、パターン転写方法を提供することを目的とする。【解決手段】 パターン形成装置10に、型100を洗浄する洗浄装置80を備えた。この洗浄装置80の洗浄槽81は、基板移動機構30、型駆動機構50によって、保持ブロック41に吸着保持された型100を基台31に対しX、Y方向に移動させたときの可動範囲内となるような位置に設けた。 このような洗浄装置80により、適宜タイミングで、型100を基板移動機構30、型駆動機構50によって移動させて洗浄槽81に浸漬し、型100の下面を洗浄液Lで超音波洗浄するようにした。 さらに、型100の洗浄が必要か否かを判定する判定機構90を備え、この判定機構90の判定結果に基づき、型100の洗浄を自動的に行うこともできる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

型に形成されたパターンを加工対象物に転写するパターン転写装置であって、 前記加工対象物を保持する対象物保持部と、 前記型を保持する型保持部と、 前記型保持部と前記対象物保持部を少なくとも二方向に相対移動させる移動機構と、 前記移動機構による前記型保持部の移動範囲内に設けられ、前記型保持部に保持された前記型の少なくともパターン面を洗浄する洗浄部と、 を備えることを特徴とするパターン転写装置。

IPC (3)：

H01L21/027 ,  B08B3/12 ,  B81C5/00

FI (3)：

H01L21/30 502D ,  B08B3/12 B ,  B81C5/00

F-Term (5)：

3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB83 ,  5F046AA28