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J-GLOBAL ID：200903042061186026

洗浄方法

Inventor： 植田 賢治 ,  酒井 洋一
Applicant, Patent owner： 大陽東洋酸素株式会社
Agent (1)： 大石 征郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994248601
Publication number (International publication number)：1996089911
Application date： Sep. 17, 1994
Publication date： Apr. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 静電気の発生が少なく、装置は小型化でき、微小な汚染異物に対しても除去能力の高い洗浄方法を提供することを目的とする。【構成】 液体供給系統(1) からタンク(2) 内に液体を導入する。ガス供給系統(3a)から加圧ガス用圧力調整弁(4) を介してタンク(2) 内にガスを供給し、タンク(2) 内の液体を加圧する。タンク(2) 内の液体をガス圧により導出すると共に、液体用バルブ(5) を介して噴射用ノズル(6) に導く。一方、ガス供給系統(3b)からのガスを、噴射ガス用圧力調整弁(7) 、ついで噴射用バルブ(8) を介して、噴射用ノズル(6) に導く。そして噴射用ノズル(6) 内において、圧力 0.1〜9.9kg/cm2Gの中低圧に加圧された液体と、圧力 0.1〜9.9kg/cm2Gの中低圧に加圧されたガスとを混合して気液混合流となすと共に、ウエハ等の洗浄対象物(9) に向けて噴射することにより、その表面に付着している汚染異物を除去する。

Claim (excerpt)：

液体供給系統(1) からタンク(2) 内に液体を導入すること、ガス供給系統(3a)から加圧ガス用圧力調整弁(4) を介して前記タンク(2) 内にガスを供給することにより、タンク(2) 内の液体を加圧すること、前記タンク(2) 内の液体を、そのタンク(2) 内に供給されたガスの圧力により導出すると共に、液体用バルブ(5) を介して噴射用ノズル(6) に導くこと、一方、ガス供給系統(3b)からのガスを、噴射ガス用圧力調整弁(7) 、ついで噴射用バルブ(8) を介して、前記噴射用ノズル(6) に導くこと、そして噴射用ノズル(6) 内において、圧力 0.1〜9.9kg/cm2Gの中低圧に加圧された液体と、圧力 0.1〜9.9kg/cm2Gの中低圧に加圧されたガスとを混合すること、その混合により得られた気液混合流を、前記噴射用ノズル(6) から洗浄対象物(9) に向けて噴射することにより、その洗浄対象物(9) の表面に付着している汚染異物を除去すること、を特徴とする洗浄方法。

IPC (4)：

B08B 3/02 ,  B05B 7/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304