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J-GLOBAL ID：200903042064310330

レジスト組成物

Inventor： 尾家 正行 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992108882
Publication number (International publication number)：1993281732
Application date： Mar. 31, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性が高度にバランスのとれたレジスト材料を提供すること。【構成】 酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が水酸基を有する芳香族化合物のスルホン酸エステル化合物であることを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が一般式(I)〜(XII)で示される化合物のアルキルスルホン酸エステル、置換アルキルスルホン酸エステル、芳香族スルホン酸エステル、及び置換芳香族スルホン酸エステル、及び一般式(XIII)で示される化合物の芳香族スルホン酸エステル、及び置換芳香族スルホン酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物であることを特徴とするレジスト組成物。一般式(I)【化1】R1〜R6:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R7〜R10:水素、アルキル基一般式(II)【化2】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R11:水素、アルキル基一般式(III)【化3】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R14:水素、アルキル基一般式(IV)【化4】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R10:水素、アルキル基A :単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリーレン基、置換アリーレン基一般式(V)【化5】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R12:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VI)【化6】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R11:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VII)【化7】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R10:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VIII)【化8】R1〜R6:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R7:水素、アルキル基一般式(IX)【化9】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、ニトロ基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R6〜R7:水素、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基一般式(X)【化10】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、ニトロ基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基一般式(XI)【化11】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、ニトロ基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基一般式(XII)【化12】R1〜R3:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基n:1〜3の整数一般式(XIII)【化13】R1〜R3:水素、ハロゲン、水酸基、ニトロ基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基

IPC (4)：

G03F 7/031 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-088348
  
• 特開平3-288855
  
• 特開平3-107163
  
• 特開平3-119358