Pat

J-GLOBAL ID：200903042070201275

半導体用ステージ

Inventor： 奥間 啓二 ,  井上 森雄
Applicant, Patent owner： 松下電子工業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992014681
Publication number (International publication number)：1993205993
Application date： Jan. 30, 1992
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】 微細パターン形成時の位置合わせ精度を高める。【構成】 ステージ1に半導体基板2に密着するように冷却装置3を設ける。また、冷却装置3を露光位置に常に合わせることや、冷却装置の制御に露光位置と露光時間とマスク開口率を使用することによる。露光により、感光性レジストに消費された光エネルギーは、大部分が半導体基板に吸収される。そのために、熱が発生し、半導体基板が膨張する。冷却装置3の導入により、その熱の拡散を抑え、基板の温度分布の幅を小さくすることができる。露光位置下に冷却装置を置くことにより、熱を逃がすので、半導体基板上の温度分布はかなり抑えられる。半導体基板上の温度分布を細かく制御することにより、さらに温度分布が抑えられる。

Claim (excerpt)：

ステージと、前記ステージに取りつけられた半導体基板と、前記半導体基板と接触した冷却装置とを備えたことを特徴とする半導体用ステージ。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平3-003222
  
• 特開平1-152639
  
• 特開平1-314707
  
• 特開昭58-159329
  
• 特開平2-067714