水処理装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007295240
Publication number (International publication number)：2009119347
Application date： Nov. 14, 2007
Publication date： Jun. 04, 2009
Summary：

【課題】通水量が大きく効率の高い水処理装置を提供する。【解決手段】本発明は、被処理水1を加圧送給する加圧部の後段に設けられ通水管路の内径を縮小させたノズル3bを有し、キャビテーション気泡を発生させるキャビテーション発生部3と、キャビテーション発生部3の後段近傍に対向させて設けた高圧側電極4及び接地側電極5からなる対電極6と、対電極間に高電圧を印加して放電プラズマを発生させることにより、被処理水中に含有する有機物等の被処理物質の分解や合成等の処理を行うもので、キャビテーション発生部内部の通水管路の内面に沿って、管路表面上に沿面放電を形成するように対電極を配置したものである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

高低差やポンプ等により用水や廃水等の被処理水を加圧送給する加圧部と、その後段に設けられ通水管路の内径を縮小させたノズルを有し、キャビテーション気泡を発生させるキャビテーション発生部と、前記キャビテーション発生部の下流部近傍に対向させて設けた高圧側電極及び接地側電極からなる対電極とを備え、前記対電極間に高電圧を印加して放電プラズマを発生させることにより、被処理水中に含有する有機物等の被処理物質の分解や合成等の処理を行う水処理装置において、前記キャビテーション発生部内の通水管路の内面に沿って、管路表面上に沿面放電を形成するように対電極を配置したことを特徴とする水処理装置。

IPC (2)：

C02F 1/48 , C02F 1/34

FI (2)：

C02F1/48 B , C02F1/34

F-Term (28)：

4D037AA01 , 4D037AA05 , 4D037AA09 , 4D037AA11 , 4D037AB01 , 4D037AB02 , 4D037AB03 , 4D037AB04 , 4D037AB05 , 4D037BA26 , 4D037CA04 , 4D061DA01 , 4D061DA07 , 4D061DA08 , 4D061DA09 , 4D061DB01 , 4D061DB09 , 4D061DB15 , 4D061DB18 , 4D061DC03 , 4D061DC04 , 4D061DC06 , 4D061DC08 , 4D061EA15 , 4D061EB04 , 4D061EB16 , 4D061EB18 , 4D061EB19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

液中オゾン発生器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-064553 Applicant：三菱重工業株式会社, 高菱エンジニアリング株式会社
有害物質処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-245445 Applicant：株式会社東芝
微細気泡発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-311985 Applicant：松下電工株式会社

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Cited by examiner (1)

有害物質処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-245445 Applicant：株式会社東芝

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