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J-GLOBAL ID：200903042077267581
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996058981
Publication number (International publication number)：1997251620
Application date： Mar. 15, 1996
Publication date： Sep. 22, 1997
Summary：
【要約】【課題】 トラック幅を決定する一対の磁気コアを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ部分における磁気ギャップ膜の膜厚分に相当する磁気コアのずれを極力なくすことによって、記録・再生フリンジの発生を抑制する。【解決手段】 基板面に対して略垂直方向に形成された所定のギャップ長を有する磁気ギャップ20を、第1および第2の磁気ギャップ膜16、18で形成する。第1および第2の磁気コア17、19を、磁気ギャップ20を介して対向配置させると共に、それらの下側に磁気ギャップ長の略半分の厚さを有する非磁性膜(磁気ギャップ膜)16、18をそれぞれ形成する。このような薄膜磁気ヘッドの製造にはリフトオフ法を適用する。
Claim (excerpt)：
基板と、前記基板面に対して略垂直方向に形成され、所定のギャップ長を有する磁気ギャップと、前記基板上に前記磁気ギャップを介して対向配置するように形成された第1および第2の磁気コアとを具備する薄膜磁気ヘッドにおいて、前記第1および第2の磁気コアの下側に、それぞれ前記磁気ギャップ長の略半分の厚さを有する非磁性膜が形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
IPC (2)：
FI (2)：
Patent cited by the Patent：
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