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J-GLOBAL ID：200903042085518089

ファイバグレーティングの製造方法及び製造装置

Inventor： 榎本 正 ,  伊藤 真澄 ,  稲井 麻紀 ,  井上 享 ,  茂原 政一
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995092507
Publication number (International publication number)：1996286056
Application date： Apr. 18, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高精度且つ高品質のファイバグレーティングを簡易に製造する製造方法と製造装置を提供する。【構成】 レーザ光源2とビームスプリッタ4及び反射ミラー6,8を有する干渉パターン投影光学系の投影面に、ピエゾ素子16で対向間隔が制御されるクランプ部材12,14にて挟持した光ファイバ10を配置する。任意の制御電圧Vをピエゾ素子16に供給して光ファイバ10に張力を負荷した状態で干渉パターンを投影することによってコア中に回折格子を形成した後、干渉パターンの投影及び張力負荷を解除して光ファイバ10の自己復元力によって縮小させることにより、所望の反射波長のファイバグレーティングを完成する。

Claim (excerpt)：

被製造媒体である光ファイバの側面に照度分布が周期的に変化したパターン光を投影することにより、光ファイバのコア中に周期的な屈折率変化による回折格子を形成するファイバグレーティングの製造方法において、前記光ファイバに任意の張力を負荷した状態で前記パターン光を投影し、前記屈折率変化を形成した後、前記パターン光の投影と前記張力の負荷を終了することを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。

IPC (2)：

G02B 6/10 ,  G02B 6/16

FI (2)：

G02B 6/10 C ,  G02B 6/16