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J-GLOBAL ID：200903042119923093

防曇剤および防曇性被膜形成基材

Inventor： 西田 広泰 ,  千住 登 ,  小松 通郎
Applicant, Patent owner： 触媒化成工業株式会社
Agent (1)： 石田 政久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993320832
Publication number (International publication number)：1995150072
Application date： Nov. 29, 1993
Publication date： Jun. 13, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 加水分解性の有機ケイ素化合物、ケイ酸液、水溶性樹脂などの被膜形成用マトリックスおよびシクロデキストリンを主成分とするものであり、シクロデキストリンは、前記マトリックス100重量部当り、40〜1500重量部含有される防曇剤。【効果】 この防曇剤は、ガラス、プラスチックシート、フィルム等の表面に薄く均一に塗布することができ、塗布加工が容易であり、塗布して形成される被膜は、防曇性および透明性に優れている。

Claim (excerpt)：

被膜形成用マトリックスおよびシクロデキストリンを主成分とする防曇剤。

IPC (7)：

C09D 5/00 PPG ,  C03C 17/25 ,  C03C 17/30 ,  C03C 17/32 ,  C08J 7/04 ,  C09D105/16 PCS ,  C09K 3/18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 表面処理剤、被覆ポリマーフィルムとその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-114012   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• 特開平3-296516
  
• 特開昭62-236860
  
• 特開昭63-237932
  
• 特開昭50-040726