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J-GLOBAL ID：200903042139683242

CrN被膜およびその形成方法

Inventor： 木内 正進 ,  船井 睦
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 矢口 平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997182570
Publication number (International publication number)：1999029848
Application date： Jul. 08, 1997
Publication date： Feb. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】 本発明の目的は、金属材料表面に強固なCrN被膜を形成する方法を提供することである。【解決手段】 金属材料の表面にCrメッキを施した後に窒素を反応させて硬質のCrN被膜を形成する方法であって、金属材料素地とCrN被膜の間に1〜50μmのCrメッキ層を構成する。

Claim (excerpt)：

金属材料素地の表面にCrメッキ層を具備し、該Crメッキ層表面が窒化されてなることを特徴とするCrN被膜。

IPC (3)：

C23C 8/24 ,  C23C 8/02 ,  C25D 3/04

FI (3)：

C23C 8/24 ,  C23C 8/02 ,  C25D 3/04