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J-GLOBAL ID:200903042225587183

カセットステージ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石戸 元
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994010548
Publication number (International publication number):1995221159
Application date: Feb. 01, 1994
Publication date: Aug. 18, 1995
Summary:
【要約】【目的】 カセット回転に要する領域を小さくし、カセットローダ等の他ユニットを同時に稼働し、ウェーハ搬送時間を短縮する。【構成】 カセット9を成膜処理する半導体製造装置との間でカセット9の受渡しを行うためのカセットステージ4を構成するカセット載せ台1,1の回転中心7をカセット9の中心になるようにする。
Claim (excerpt):
ウェーハを成膜処理する半導体製造装置との間でカセットの受渡しを行うためのカセットステージにおいて、該カセットステージの回転中心をカセットの中心になるようにすることを特徴とするカセットステージ。
IPC (5):
H01L 21/68 ,  B65G 1/00 537 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31

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