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J-GLOBAL ID：200903042247498788
触媒組成物及びその製造方法ならびに該触媒組成物を用いる含硫炭化水素の水素化脱硫方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
穂高 哲夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991303855
Publication number (International publication number)：1993115781
Application date： Oct. 24, 1991
Publication date： May. 14, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 含硫又は含窒素炭化水素留分などの水素化脱硫や水素化脱窒素用触媒として、また、各種の炭化水素の水素化若しくは水素化精製用触媒として使用することができる、触媒活性に優れた新規な触媒組成物を提供する。【構成】 周期表VIA族金属と周期表VIII族金属とアルミナよりなる触媒組成物であって、該VIA族金属とVIII族金属の合計含量が該金属酸化物と該Al2O3の合計量に対して20〜70重量%の範囲にあり、かつ、X線回折によりアルミナ以外の回折ピークが観測されず、しかも、25°Cから1000°Cを超える温度まで昇温速度10°C/minの条件で昇温還元(TPR)を行った際に得られるTPRスペクトルにおいて25°C以上500°C未満の温度域に見られる低温還元ピークの面積Lと500〜1000°Cの温度域に見られる高温還元ピークの面積Hとの比L/Hが0.1〜0.45である新規な触媒組成物。
Claim (excerpt)：
周期表VIA族金属と周期表VIII族金属とアルミナよりなる触媒組成物であって、該触媒組成物に占める該VIA族金属とVIII族金属の合計含量が、これらの含有金属成分をそれぞれ通常安定な酸化物として計算しかつ含有アルミナ成分をAl2O3として計算したときに、その際の該金属酸化物と該Al2O3の合計量に対して、20〜70重量%の範囲にあり、かつ、X線回折によりアルミナ以外の回折ピークが観測されず、しかも、550°Cで3時間空気焼成した試料について水素流通下で25°Cから1000°Cを超える温度まで昇温速度10°C/minの条件で昇温還元(TPR)を行った際に得られるTPRスペクトルにおいて、25°C以上500°C未満の温度域に見られる低温還元ピークの面積Lと500〜1000°Cの温度域に見られる高温還元ピークの面積Hとの比L/H[但し、該低温還元ピークと高温還元ピークが完全に分離していない場合には、500°Cを挟む低温側ピークと高温側ピークの間で最も水素消費量(スペクトル強度)が小さい温度でスペクトルを分割して前記面積LおよびHを計算するものとする。]が0.1〜0.45であることを特徴とする新規な触媒組成物。
IPC (3)：
B01J 23/85
, B01J 21/04
, C10G 45/08
