走査型露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996017092
Publication number (International publication number)：1997186075
Application date： Jan. 05, 1996
Publication date： Jul. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】走査型露光装置において、整定のための不要な走行を排除してスループットを向上させる。【解決手段】原版7のパターンをスリット状の照明光を用いて基板8上に露光する露光手段6と、この露光手段の露光動作をオン/オフする露光制御手段9と、基板上の次に走査露光すべき露光位置および走査速度を指令する指令値生成手段1と、この指令に基づいて原板の目標位置および基板の目標位置を生成する目標位置生成手段2,3と、これらの目標位置に基づいて原板および基板の位置を制御する位置制御手段4,5とを備え、各露光位置における露光に際しては原版および基板間の同期誤差が整定した所定の走査速度に達した後に露光手段の露光動作をオンする走査型露光装置において、目標位置生成手段は、予め得た基板上の各露光位置および走査速度に対応する原版および基板間の同期誤差の整定時間を記憶したテーブルを参照して各露光位置における整定時間を得、この整定時間に基づいて各露光位置における露光に際しての原版および基板の目標位置を生成するもの。

Claim (excerpt)：

原版のパターンをスリット状の照明光を用いて基板上に露光する露光手段と、この露光手段の露光動作をオン/オフする露光制御手段と、前記基板上の次に走査露光すべき露光位置および走査速度を指令する指令値生成手段と、この指令に基づいて前記原板の目標位置および前記基板の目標位置を生成する目標位置生成手段と、これらの目標位置に基づいて前記原板および基板の位置を制御する位置制御手段とを備え、各露光位置における露光に際しては前記原版および基板間の同期誤差が整定した所定の走査速度に達した後に前記露光手段の露光動作をオンする走査型露光装置において、前記目標位置生成手段は、予め得た前記基板上の各露光位置および走査速度に対応する前記原版および基板間の同期誤差の整定時間を記憶したテーブルを参照して各露光位置における整定時間を得、この整定時間に基づいて各露光位置における露光に際しての前記原版および基板の目標位置を生成するものであることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505

FI (3)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 505 , H01L 21/30 516 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-142952 Applicant：株式会社ニコン

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