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J-GLOBAL ID:200903042271824874

毛髪化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000177798
Publication number (International publication number):2001354524
Application date: Jun. 14, 2000
Publication date: Dec. 25, 2001
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】低温安定性に優れた毛髪化粧料の提供。【解決手段】式1、2で示されるカチオン性界面活性剤と、式3、4で示されるベタイン型界面活性剤とを含有してなり、スプレー容器、フォーマー容器に充填したことを特徴とする毛髪化粧料。(式中R1はC8〜22のアルキル、ヒドロキシアルキル基、R2、R3はC1〜3のアルキル、ヒドロキシアルキル、ベンジル基、R4はR1、R2と同一の置換基。X1はハロゲン、C1〜3のアルキル基を有するモノアルキル硫酸基、R5〜R7中2つ以上はC8〜20のアルキル基、残りはメチル、エチル、ヒドロキシエチル基、nは3〜10、X2はハロゲン、メチル硫酸、エチル硫酸基、R8、R9はアルキル、アルケニル基)
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(1)又は(2)で示されるカチオン性界面活性剤と、(B)下記一般式(3)又は(4)で示されるベタイン型界面活性剤とを含有してなり、スプレー容器又はフォーマー容器に充填したことを特徴とする毛髪化粧料。【化1】
IPC (2):
A61K 7/06 ,  A61K 7/08
FI (2):
A61K 7/06 ,  A61K 7/08
F-Term (33):
4C083AA122 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC212 ,  4C083AC302 ,  4C083AC352 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC472 ,  4C083AC482 ,  4C083AC542 ,  4C083AC691 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC792 ,  4C083AC852 ,  4C083AD042 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD322 ,  4C083AD452 ,  4C083AD532 ,  4C083AD662 ,  4C083BB06 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083EE21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 1剤式毛髪脱色剤
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-061903   Applicant:花王株式会社
  • 特開平3-178923
  • エアゾール型化粧料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-098204   Applicant:ポーラ化成工業株式会社
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