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J-GLOBAL ID：200903042278701719

往復直動装置とこれを用いた半導体製造装置

Inventor： 茶畑 剛
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994027069
Publication number (International publication number)：1995235579
Application date： Feb. 25, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 往復直動装置とこれを用いた半導体製造装置に関し、エアシリンダからの発塵を防止する。【構成】 エアシリンダ1と、エアシリンダ1のシリンダチューブ11内をピストン12が区画してなる二つの室11A, 11Bの一方を選択的に真空排気する管路3とで構成した往復直動装置とする。シリンダチューブ11の室11A を真空排気することによりピストンロッド13は前進し、室11B を真空排気することによりピストンロッド13は後退する。

Claim (excerpt)：

シリンダチューブ(11)内でピストン(12)を移動させるエアシリンダ(1) と、該シリンダチューブ(11)内を該ピストン(12)が区画してなる二つの室(11A, 11B)の一方を選択的に真空排気する管路(3, 4)とを有し、該シリンダチューブ(11)の二つの室(11A, 11B)の一方を選択的に負圧にすることにより該ピストン(12)を移動させることを特徴とする往復直動装置。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  F15B 11/06 ,  F15B 21/04