シリコン片の洗浄方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大家邦久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994064551
Publication number (International publication number)：1995242494
Application date： Mar. 08, 1994
Publication date： Sep. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】シリコン片の高純度洗浄方法の提供【構成】シリコン片が収容された容器底部の中心部から洗浄液を導入し、容器の中心部では供給された洗浄液によってシリコン片が上昇すると共に容器内壁側ではシリコン片が自重によって沈降する緩やかな対流を容器内に形成して洗浄することを特徴とするシリコン片の洗浄方法。【効果】多結晶シリコン棒の破砕に伴って生じる破砕屑のシリコン片などのように鋭利なシリコン片であっても、洗浄容器の材料による2次汚染を生じることがなく、半導体原料として使用できる純度に洗浄することができる。

Claim (excerpt)：

シリコン片が収容された容器底部の中心部から洗浄液を導入し、容器の中心部では供給された洗浄液によってシリコン片が上昇すると共に容器内壁側ではシリコン片が自重によって沈降する緩やかな対流を容器内に形成して洗浄することを特徴とするシリコン片の洗浄方法。

IPC (2)：

C30B 29/06 , H01L 21/304 341

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

特開昭60-060913
特開昭62-072512
多結晶シリコンの洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-180339 Applicant：信越半導体株式会社

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