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J-GLOBAL ID：200903042363372775
磁気ディスクの製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中島 三千雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991351463
Publication number (International publication number)：1993166176
Application date： Dec. 12, 1991
Publication date： Jul. 02, 1993
Summary：
【要約】【目的】 磁気ヘッドの吸着やヘッドヒットの問題を惹起することなく、磁気ヘッドの浮上高さを低下せしめることを可能にする磁気ディスクを、有利に製造する方法を提供する。【構成】 非磁性材料からなる円盤状の素材表面に金属或いは酸化物の硬化層が形成された磁気ディスク用基板を用い、かかる基板の表面に微細な凹凸を形成するテクスチャ加工を施した後、強磁性金属からなる磁気記録層を成膜して、目的とする磁気ディスクを製造するに際して、かかるテクスチャ加工を、粒径が実質的に4μm 以下のみのダイヤモンド研磨砥粒を界面活性剤水溶液中に分散せしめてなる加工液を用いて、実施する。
Claim (excerpt)：
非磁性材料からなる円盤状の素材表面に金属或いは酸化物の硬化層が形成された磁気ディスク用基板を用い、かかる基板の表面に微細な凹凸を形成するテクスチャ加工を施した後、強磁性金属からなる磁気記録層を成膜して、目的とする磁気ディスクを製造するに際して、かかるテクスチャ加工を、粒径が実質的に4μm 以下のみのダイヤモンド研磨砥粒を界面活性剤水溶液中に分散せしめてなる加工液を用いて、実施することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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