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J-GLOBAL ID：200903042372807725
ガス処理装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
井上 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993100229
Publication number (International publication number)：1994291007
Application date： Apr. 02, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】 例えば半導体ウエハの熱処理装置などのガス処理装置において、電気部品のスパーク等によるガス爆発や火災を防止すること【構成】 熱処理部6に処理ガス(キャリアガスも含む)を供給するためのガス配管21に設けられたガス制御機器、例えば圧力スイッチ3、マスフローコントローラ4、遮断弁5やバルブ24などを、ガス漏洩防止構造を有する筐体内に収納すると共に、ガス制御機器に組み合わせられた電気部品例えば圧力スイッチ3のリレー35などを含む回路ユニットや、遮断弁5における電磁弁52などを含む空気制御部51、あるいはテープヒータ25のコネクタ26などを、ガス制御機器ユニットの筐体の外に別個に設けた筐体内に収納する。
Claim (excerpt)：
複数のガス制御機器がガス配管を介してガス処理部に接続されるガス処理装置において、複数のガス制御機器を、ガス漏洩防止構造を有する共通の収納部内に収納し、ガス制御機器に組み合わされた電気部品を前記収納部の外に配置することを特徴とするガス処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/02
, B01J 4/00 102
