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J-GLOBAL ID：200903042385113374

低級酸化ケイ素粉末及びその製造方法

Inventor： 吉田 昭夫 ,  市川 恒希 ,  田中 博勝 ,  長坂 英昭 ,  小林 晃
Applicant, Patent owner： 電気化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999342813
Publication number (International publication number)：2001158613
Application date： Dec. 02, 1999
Publication date： Jun. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】微粉末にして耐酸化性に優れ、蒸発の容易な活性度の高い低級酸化ケイ素粉末を提供することである。また、そのような耐酸化性と活性度の高い低級酸化ケイ素粉末を容易に製造すること。【解決手段】比表面積が10m<SP>2</SP>/g以上で、アスペクト比2以上の針状粒子の含有率が30%以上であり、しかもSiOx(1.00<x≦1.40)組成を有するものであることを特徴とする低級酸化ケイ素粉末。酸化性指数が10%以下で、活性度が90%以上であり、しかもSiOx(1.00<x≦1.40)組成を有するものであることを特徴とする低級酸化ケイ素粉末。低級酸化ケイ素粉末の製造方法。

Claim (excerpt)：

比表面積が10m<SP>2</SP>/g以上で、アスペクト比2以上の針状粒子の含有率が30%以上であり、しかもSiOx(1.00<x≦1.40)組成を有するものであることを特徴とする低級酸化ケイ素粉末。

F-Term (18)：

4G072AA24 ,  4G072AA50 ,  4G072BB05 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH14 ,  4G072HH36 ,  4G072JJ02 ,  4G072LL03 ,  4G072MM01 ,  4G072RR13 ,  4G072RR21 ,  4G072RR22 ,  4G072RR23 ,  4G072TT05 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30