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J-GLOBAL ID：200903042400965560

フッ素含有シクロデキストリン誘導体、ポリロタキサンおよび感放射線性樹脂組成物

Inventor： 西久保 忠臣 ,  工藤 宏人 ,  西村 功 ,  下川 努 ,  杉江 紀彦
Applicant, Patent owner： JSR株式会社 ,  学校法人神奈川大学
Agent (1)： 和気 操
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004122246
Publication number (International publication number)：2005306917
Application date： Apr. 16, 2004
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：

【課題】 F2エキシマレーザーなどの放射線に対する透明性が高く、レジストに要求される基本性能を満たす酸解離性基含有重合体として使用できる。【解決手段】 式(1)で表されるフッ素含有シクロデキストリン誘導体、【化1】および、この環状化合物の空洞を貫通する直鎖状高分子体とからなるポリロタキサン、ならびにフッ素含有シクロデキストリン誘導体または上記ポリロタキサンを酸解離性基含有樹脂とし、感放射線性酸発生剤を含む感放射線性樹脂組成物。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

下記式(1)で表されるフッ素含有シクロデキストリン誘導体。

IPC (5)：

C08B37/16 ,  C08L5/16 ,  C08L101/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (5)：

C08B37/16 ,  C08L5/16 ,  C08L101/00 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (19)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  4C090AA02 ,  4C090AA08 ,  4C090BA10 ,  4C090BB66 ,  4C090DA32 ,  4J002AB052 ,  4J002CH021 ,  4J002GP03