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J-GLOBAL ID:200903042442299471

縮小投影露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 國分 孝悦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993075287
Publication number (International publication number):1994260387
Application date: Mar. 09, 1993
Publication date: Sep. 16, 1994
Summary:
【要約】【目的】 ウェーハ露光中にレチクルの温度上昇を抑えることができるようにする。【構成】 レチクルステージ4の内部に冷却配管7を設け、この中に冷媒8を循環器9により循環して流す。冷却配管7の中に熱交換器10を設け、この熱交換器10に通じる冷却配管11の中に冷媒12を循環器13により流す。温度センサ14によりレチクル3の温度を検出し、その検出値に基づいて制御部15は循環器9及び13を制御し、熱交換器10を流れる冷媒12の流量、冷却配管7を流れる冷媒8の流量を制御する。冷媒8によりレチクル3が冷却され、レチクル3の温度が一定に保たれる。【効果】 レチクルの温度上昇によるレチクルの膨張を防ぐことができ、各レイヤーの総合重ね合わせ精度の低下を防ぐことが可能になる。
Claim (excerpt):
レチクルを保持するレチクルステージの内部に配管を設け、この配管に冷媒を流す冷却手段を設けたことを特徴とする縮小投影露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • トランクス
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-282913   Applicant:株式会社アズ

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