Pat
J-GLOBAL ID:200903042465357380

3次元フォトニック結晶及びその製造方法及び光学素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐野 静夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000362136
Publication number (International publication number):2002162653
Application date: Nov. 29, 2000
Publication date: Jun. 07, 2002
Summary:
【要約】【課題】 3次元の周期構造を動的に可変できる3次元フォトニック結晶を提供する。【解決手段】 屈折率及びエッチング特性の異なる複数の媒質6、7が周期的に積層して成る基体21上に2次元の周期で凹設された細孔部21aの断面積をエッチングによって拡大し、基板3と電極23との間に印加される電圧により屈折率が変化する電気光学効果を有する液晶等の注入材料22を細孔部21aに注入した。
Claim (excerpt):
相異なる三つの方向で屈折率が周期的に変化する3次元フォトニック結晶において、屈折率及びエッチング特性の異なる複数の媒質が周期的に積層して成る基体上に、2次元の周期で凹設され且つ媒質毎に孔径の異なる細孔部を形成し、印加電圧により屈折率が変化する電気光学効果を有する材料を前記細孔部に充填したことを特徴とする3次元フォトニック結晶。
IPC (3):
G02F 1/29 ,  G02B 6/12 ,  G02F 1/13 505
FI (4):
G02F 1/29 ,  G02F 1/13 505 ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N
F-Term (21):
2H047KA03 ,  2H047KB08 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047RA08 ,  2H047TA44 ,  2H088EA47 ,  2H088FA08 ,  2H088FA30 ,  2H088JA03 ,  2H088KA04 ,  2K002AB07 ,  2K002AB08 ,  2K002BA06 ,  2K002CA14 ,  2K002DA14 ,  2K002DA20 ,  2K002EB02 ,  2K002EB03 ,  2K002EB09 ,  2K002HA08

Return to Previous Page