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J-GLOBAL ID：200903042473729741
多孔質シリカゾルとその製法
Inventor：
,
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993196534
Publication number (International publication number)：1995048117
Application date： Aug. 06, 1993
Publication date： Feb. 21, 1995
Summary：
【要約】【目的】 光学材料、特にレンズやガラスにおいて優れた効果を持つ反射防止膜を形成するための、低屈折率フィラーである多孔質シリカゾルを生成する。【構成】 平均粒子径が0.3〜100nmの範囲にあり、かつ屈折率が1.2〜1.4である多孔質シリカゾルを、シリコンのアルコキシドをアンモニアで加水分解した後、アンモニアを除去することによって生成する。【効果】 反射防止膜形成用の低屈折率フィラーして用いることができ、非常に優れた反射防止膜形用塗布液を作製することができる。
Claim (excerpt)：
平均粒子径が0.3〜100nmの範囲にあり、かつ、屈折率が1.2〜1.4であることを特徴とする多孔質シリカゾル。
IPC (3)：
C01B 33/14
, C01B 33/149
, G02B 1/11
Cited by examiner (8)
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