Pat
J-GLOBAL ID：200903042476814286

光学素子の製作方法及び該光学素子を用いた照明装置

Inventor：
吽野 靖行

About 吽野 靖行


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996281830
Publication number (International publication number)：1998111407
Application date： Oct. 03, 1996
Publication date： Apr. 28, 1998
Summary：
【要約】【課題】 エッチング量を適切に設定してマスクのアライメント誤差の影響を抑制して高性能なバイナリ型回折光学素子を製作することができる光学素子の製作方法及び該光学素子を用いた照明装置を得ること。【解決手段】 基板に対して順に、レジスト塗布,マスク上のパターンの露光転写,現像処理,エッチング,そしてレジスト除去という一連のプロセスをN回繰り返して光学素子を製作する光学素子の製作方法において、第k回目(2≦k≦N)のエッチング処理に入る前に該第k回目の露光転写で用いたマスクと第k-1回目の露光転写で用いたマスクとの相対的な位置合わせ誤差量を求め、該位置合わせ誤差量に応じて第k回目のエッチング量を決定していること。
Claim (excerpt)：
基板に対して順に、レジスト塗布,マスク上のパターンの露光転写,現像処理,エッチング,そしてレジスト除去という一連のプロセスをN回繰り返して光学素子を製作する光学素子の製作方法において、第k回目(2≦k≦N)のエッチング処理に入る前に該第k回目の露光転写で用いたマスクと第k-1回目の露光転写で用いたマスクとの相対的な位置合わせ誤差量を求め、該位置合わせ誤差量に応じて第k回目のエッチング量を決定していることを特徴とする光学素子の製作方法。
IPC (2)：
G02B 5/18 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G02B 5/18 ,  H01L 21/30 515 D
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM