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J-GLOBAL ID：200903042514387702

ネガ型放射線感応性レジスト組成物

Inventor： 小林 政一 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992137542
Publication number (International publication number)：1993313370
Application date： May. 01, 1992
Publication date： Nov. 26, 1993
Summary：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性樹脂と、アルコキシメチル化アミノ樹脂と、一般式【化1】〔式中のXは、2-フリル基、3-アルキル-2-フリル基、3,5-ジアルコキシフェニル基である〕で表わされるトリアジン化合物とを含有するネガ型放射線感応性レジスト組成物である。【効果】 上記レジスト組成物は、解像性及びレジストパターンのプロファイル形状に優れ、かつ高感度であり、半導体デバイスの製造分野における微細加工に好適に用いられる。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂とアルコキシメチル化アミノ樹脂から成る樹脂成分に対し、(B)一般式【化1】(式中のXは3,5-ジアルコキシフェニル基、2-フリル基又は3-アルキル-2-フリル基である)で表わされるトリアジン化合物を配合したことを特徴とするネガ型放射線感応性レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-146044
  
• 特開平2-217855
  
• 特開昭61-151644
  
• 特公昭59-001281