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J-GLOBAL ID:200903042566596768

プラズマ処理炭酸ガス分離膜の製法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 池浦 敏明 (外1名) ,  池浦 敏明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993230975
Publication number (International publication number):1995060078
Application date: Aug. 24, 1993
Publication date: Mar. 07, 1995
Summary:
【要約】【目的】 二酸化炭素分離係数にすぐれるとともに、二酸化炭素キャリヤー液の保持性にすぐれ、水と接触してもその膜性能が容易に低下することのない二酸化炭素分離膜の製造方法を提供する。【構成】 多孔質高分子膜をプラズマ処理した後、親水性ビニルモノマー蒸気をそのプラズマ処理された多孔質高分子膜に接触させてグラフト重合させ、次いでこのようにして得られた親水性重合体表面層を有する多孔質高分子膜に二酸化炭素キャリヤー液を含浸保持させることを特徴とするプラズマ処理炭酸ガス分離膜の製法。
Claim (excerpt):
多孔質高分子膜をプラズマ処理した後、親水性ビニルモノマー蒸気をそのプラズマ処理された多孔質高分子膜に接触させてグラフト重合させ、次いでこのようにして得られた親水性重合体表面層を有する多孔質高分子膜に二酸化炭素キャリヤー液を含浸保持させることを特徴とするプラズマ処理炭酸ガス分離膜の製法。
IPC (3):
B01D 67/00 500 ,  B01D 71/40 ,  C01B 31/20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭60-090004

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