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J-GLOBAL ID：200903042568984307

ホールパタン形成用マスク

Inventor： 大▲高▼ 明浩 ,  河合 義夫 ,  松田 維人
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994082756
Publication number (International publication number)：1995271013
Application date： Mar. 30, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 吸収型位相シフトマスクの透過率を増大させることなく、すなわち光学像の2次ピークの強度を増大させることなく、焦点余裕をもったホールパタンの形成を行えるようにする。【構成】 マスクパタンの振幅透過率分布を、転写しようとするホールパタンの中心からの距離に対して、0次のベッセル関数(図1(a)参照)とする。具体的には、この連続的な振幅透過率分布を階段状の関数で近似し(図1(b))、、吸収型位相シフトマスクで実現する。例えば、転写しようとするホールパタンHPM の中心から半径1.1λ/NAおよび2.1λ/NAの円の円周線上に、円環状の帯(透過部)HPS1およびHPS2を補助パタンとして設ける。

Claim (excerpt)：

そのマスクパタンの振幅透過率分布が、転写しようとするホールパタンの中心からの距離に対して、0次のベッセル関数とされていることを特徴とするホールパタン形成用マスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528