反射防止組成物及びレジストパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995273963
Publication number (International publication number)：1996179509
Application date： Oct. 23, 1995
Publication date： Jul. 12, 1996
Summary：

【要約】【課題】環境面で問題となる有機媒体の使用量が少なくても良好に反射防止膜を形成することができ、基板からの光の反射を防ぐための反射防止膜として使用でき、フォトレジストとのミキシングが抑制され、薄い膜厚でもステップカバレッジが良好で、且つドライエッチング性が良好な反射防止組成物を提供する。また、解像度の低下やレジストパターンの変形が少なく、また塗布膜厚の変化による感度の変化が抑制されたパターン形成方法を提供する。【解決手段】ケン化度70%以上のポリビニルアルコール樹脂を含有する反射防止組成物を基板とフォトレジスト膜との間に塗布し、パターン形成を行う。

Claim (excerpt)：

基板とフォトレジスト膜との間に塗布される反射防止組成物において、ケン化度70%以上のポリビニルアルコール樹脂を含有することを特徴とする反射防止組成物。

IPC (3)：

G03F 7/11 503 , G03F 7/004 506 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 563 , H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ハレーション止め組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-328816 Applicant：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
特開昭60-223121
特開昭60-122933

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