Pat
J-GLOBAL ID：200903042601583577
微細構造体の形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993036508
Publication number (International publication number)：1994252032
Application date： Feb. 25, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：
【要約】【目的】 微細構造体の形成方法に関し、所望の形状を高精度に、かつ再現性よく形成された面と、該面の側面として、該面に斜め方向に傾斜した側面を有する微細構造体の形成方法を提供する。【構成】 基板7上にレジスト層8を形成する工程と、レジスト層8に対し、シンクロトロン放射光を斜め方向から照射することにより、レジスト層8を露光する露光工程と、露光工程により露光したレジスト層8を現像してレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンに従って、基板7上に金属構造体を堆積させる工程とを備える。
Claim (excerpt)：
基板上にレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層に対し、光を斜め方向から照射することにより、前記レジスト層を露光する露光工程と、前記露光工程により露光したレジスト層を現像してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンに従って、前記基板上に金属構造体を堆積させる工程とを備える、微細構造体の形成方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, H01L 21/288
