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J-GLOBAL ID：200903042638660504

化学的気相成長装置

Inventor： 鈴木 聰 ,  末広 要三郎 ,  日月 應治 ,  堀之内 礼仁
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 大島 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993107755
Publication number (International publication number)：1994295870
Application date： Apr. 08, 1993
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 化学的気相成長装置で使用しているキャリアガスを反応後排ガスとして排気することなく、排ガスを純化して再度キャリアガスとして再使用する。【構成】 キャリアガスを反応後排気ガスとして導くための排気導入口1と、排気ポンプ2と、排気流量制御機構3と、排気ガス中の反応生成物を除去する反応生成物除去機構5と、同ガス中の未反応ドーパントガスを除去する未反応ガス除去機構7を有し、これら機構を通った後のガスを純化装置8により純化し、純化後のキャリアガスを再供給するガス供給機構9を有し、排ガスを純化して再利用することを特徴とする化学的気相成長装置。【効果】 高価な高純度キャリアガスの使用量が低減できランニングコストを圧縮できる。

Claim (excerpt)：

化学的気相成長装置であって、キャリアガスを反応後、排気ガスとして導くための排気導入口1と、排気ポンプ2と、排気流量制御機構3と、排気ガス中の反応生成物を除去する反応生成物除去機構5と、同ガス中の未反応ドーパントガスを除去する未反応ガス除去機構7と、これらの機構を通った後のガスを再利用可能に純化するための手段とを有することを特徴とする化学的気相成長装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-096728
  
• 特開昭63-025294
  
• 特開平2-086122